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气相沉积(CVD)炉 先进陶瓷
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产品详情

设备用途:

用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳复合涂层。

用途广泛 如:

1 碳碳复合涂层:光伏晶体炉的热场材料

2 石墨涂层:LED蓝宝石衬底MOCVD的石墨托盘

设备特点:

1 立式结构,炉壳用耐腐蚀材料制成。

2 独特的内罩进排气结构,热场温度均匀性好。

3 气氛控制精确,真空系统配有过滤器,可选配尾气处理系统。

4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌,性能稳定、可靠。

5 配备出、装料料车,方便操作及出装料,提高工作效率。

主要技术参数:

No.型号工作区尺寸(ØXH)mm高温度  (℃)真空度   (Pa)

压升率

 (Pa/h)

温度均匀性 (℃)功率   (KW)
1ZT-60-15300X50015001-1000.67±1060
2ZT-145-15600X80015001-1000.67±10145
3ZT-220-15800X100015001-1000.67±15220
4ZT-270-151000X150015001-1000.67±20275
5ZT-550-151500X200015001-1000.67±20550

炉膛尺寸可按要求定做

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